Hướng dẫn sử dụng

Atomic layer deposition enabling higher efficiency solar cells: A review

Loại tài liệu: Tài liệu số - Journal Article

Thông tin trách nhiệm: Hoex, Bram; Hossain, Md. Anower; Khoo, Kean Thong; Cui, Xin; Poduval, Geedhika K; Zhang, Tian; Li, Xiang; Li, Wei Min

Nhà Xuất Bản: Elsevier

Năm Xuất Bản: 2020

Chia sẻ

Tải ứng dụng tại các liên kết sau để xem đầy đủ tài liệu.

Tóm tắt

Atomic layer deposition (ALD) can synthesise materials with atomic-scale precision. The ability to tune thernmaterial composition, film thickness with excellent conformality, allow low-temperature processing, and in-siturnreal-time monitoring makes this technique very appealing for a wide range of applications. In this review, wernfocus on the application of ALD layers in a wide range of solar cells. We focus on industrial silicon, thin film,rnorganic and quantum dot solar cells. It is shown that the merits of ALD have already been exploited in a widernrange of solar cells at the lab scale and that ALD is already applied in high-volume manufacturing of silicon solarrncells.

Ngôn ngữ:en
Thông tin trách nhiệm:Hoex, Bram; Hossain, Md. Anower; Khoo, Kean Thong; Cui, Xin; Poduval, Geedhika K; Zhang, Tian; Li, Xiang; Li, Wei Min
Thông tin nhan đề:Atomic layer deposition enabling higher efficiency solar cells: A review
Nhà Xuất Bản:Elsevier
Loại hình:Journal Article
Bản quyền:Copyright © 2020 Chongqing University
Mô tả vật lý:23 p.
Năm Xuất Bản:2020

(Sử dụng ứng dụng VNU- LIC quét QRCode này để mượn tài liệu)

(Lưu ý: Sử dụng ứng dụng Bookworm để xem đầy đủ tài liệu. Bạn đọc có thể tải Bookworm từ App Store hoặc Google play với từ khóa "VNU LIC”)

  • Chủ đề
TÀI NGUYÊN KHÁC